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<p align="center"> </p> <p> 据央[视新闻客户端报道，1月12日，？工业和信息化部党组书记、部长李乐成在接受采访时称，中国的人工智能发展，场景应用优势、人才优势非常明显。“中国经济，我一直都是充满着信心。” </p> <p> 在访谈中，李乐成着重介绍了展览的装光刻胶的玻璃瓶，称其是重大的科技攻关内容之一。 </p> <p> 李乐成说道，这个玻璃瓶能确保光刻胶在运输和保管储藏过程中不受污染、不受影响，结束了中国过去光刻胶整个行业几乎100%依赖国外的历史，“现在这个产品已经在产线上试用了，反应很好。” </p> <p align="center" style="text-align:center;"> </p> <p> 李乐成表示，今年要深入推进的工作包括一定要把高质量科技供给抓上来，要提升企业科技创新的主体地位，实现科技成果的转化。工业增长要更多依靠“价值创造”和“以质取胜”。传统产业焕新，新兴产业壮大，集成电路、新材料、航空航天、生物制造、具身智能、6G 等都是重点。 </p> <p> 关于如何让科技创新和产业创新深度融合，李乐成表示，构建全国制造业中试服务网络，架好“实验室”到“生产线”的桥梁。要推进科技成果“先使用后付费”等改革试点、高新技术成果产业化试点等；加快“找场景”和“造场景”的结合，发挥重点应用场景“连接器”作用，促进创新链产业链无缝对接。 </p> <p> 李部长说，虽然今年面临外部环境变化、新旧动能转换等挑战，但这些都是发展中的困难、转型中的问题，只要我们坚定信心、迎难而上，用创新的思路、改革的办法，把优势条件用足用好，就完全能够推动中国经济行稳致远、不断发展。 </p> <p align="center" style="text-align:center;"> </p> <p> 据介绍，光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括光引发剂、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂，是光刻工艺中使用的材料。当向晶圆照射光线（曝光）以刻印半导体微细电路时，在晶圆表面对光产生反应的物质就是光刻胶。根据应用领域不同，光刻胶可以分为面板光刻胶（也称“LCD光刻胶”）、PCB光刻胶和半导体光刻胶，按曝光波长不同，可分为g线、i线、KrF、ArF、EUV光刻胶等种类。 </p> <p> 光刻胶的重要性已不言而喻，目前为止，包括JSR、信越化学、东京应化TOK等日本供应商和美国杜邦占据了全球光刻胶市场的大部分份额，尤其是在7nm以下的芯片先进制程市场。不过国产企业近年来也在加速布局，力争国产化替代。 </p> <p> 例如，彤程新材是国内深紫外KrF光刻胶最大量产供应商以及国内首家TFT-LCD Array光刻胶生产商、国内最大的液晶正性光刻胶本土供应商。2025年前三季度，公司实现营收25.23亿元，同比增长4.06%，实现归母净利润4.94亿元，同比增长12.65%。此外，彤程新材正筹划申请在香港联交所主板挂牌上市。 </p> <p> 而南大光电选择跳过G线、I线，直接向中高端光刻胶领域发起进攻。目前，南大光电的ArF光刻胶已通过部分客户验证，实现规模化量产。其最新透露，2024年度ArF光刻胶收入突破千万元，2025年保持连续稳定供货，子公司宁波南大光电ArF光刻胶的产能为50吨/年。 </p> <p> <strong>本文系观察者网独家稿件，未经授权，不得转载。</strong> </p>